研磨拋光設備

金相試片的目的是顯示樣品的真實組織。樣品可以是金屬、陶瓷、燒結碳化物或者其他固態材料。
金相試片的理論建立在以下四個評價標準上：
1、系統化製樣
2、重現性
3、真實組織呈現
4、可接受的製樣結果

研磨的最終目的是獲得極小損傷的平表面，而這些微小的損傷在隨後的拋光過程中用很短的時間就可以消除掉。
研磨分為粗磨和細磨兩個過程。
粗磨粗磨的過程是將所有樣品的表面成為相似的表面，使用較為粗大的、固定的研磨顆粒可迅速地研磨掉物質。
精磨精磨會使樣品有些微變形，但這些變形在拋光過程中就會消除掉。
拋光如同研磨一樣，也必須去掉前面工序帶來的損傷。可分為金剛石拋光和氧化物拋光兩個過程。拋光在拋光布上完成。金剛石拋光時還須用到潤滑劑。
拋光後檢測部位變得光亮，觀察組織時，需先對樣品檢測部位進行侵蝕，完畢後用酒精沖淋並用吹風機吹乾。