研磨抛光设备

金相試片的目的是顯示樣品的真實組織。樣品可以是金屬、陶瓷、燒結碳化物或者其他固態材料。
金相試片的理論建立在以下四個評價標準上：
1、系統化製樣
2、重現性
3、真實組織呈現
4、可接受的製樣結果

研磨的最终目的是获得极小损伤的平表面，而这些微小的损伤在随后的抛光过程中用很短的时间就可以消除掉。
研磨分为粗磨和细磨两个过程。
粗磨 粗磨的过程是将所有样品的表面成为相似的表面，使用较为粗大的、固定的研磨颗粒可迅速地研磨掉物质。
精磨 精磨会使样品有些微变形，但这些变形在抛光过程中就会消除掉。
抛光如同研磨一样，也必须去掉前面工序带来的损伤。可分为金刚石抛光和氧化物抛光两个过程。抛光在抛光布上完成。金刚石抛光时还须用到润滑剂。
抛光后检测部位变得光亮，观察组织时，需先对样品检测部位进行侵蚀，完毕后用酒精冲淋并用吹风机吹干。